NS系列5?重復性臺階高度儀0.01埃分辨率，5?超高精度精準測量微觀檢測微觀輪廓。搭載線性可變差動電容傳感器（LVDC），在半導體、光伏、MEMS等精密制造與科研領域一站式解決多場景微觀參數檢測需求。

一、核心優勢

1.超高精度，數據無偏差

13μm量程下實現0.01埃分辨率，5?超高解析力，精準捕捉幾納米至幾百微米的臺階形貌，為嚴苛檢測標準提供硬核數據支撐。

2.全能檢測，無需多設備

同步完成臺階高度（納米-1050μm）、表面粗糙度（Ra/Rz等數十項參數）、膜層厚度及應力分布測量，覆蓋工藝全流程檢測需求，簡化操作流程。

3.全域適配，降低投入成本

不受被測樣品反射率、材料種類、硬度限制，廣泛適配半導體、太陽能光伏、光學加工、LED、MEMS器件等多行業，避免設備閑置浪費。

4.智能高效，提升檢測產能

支持單區域、多區域批量測量及3D可視化重建，搭配SPC統計分析功能，批量樣品一鍵檢測，數據趨勢直觀呈現，減少人工干預。

二、核心功能

1.全流程參數檢測，適配多元工藝

（1）臺階高度測量：精準量化蝕刻、濺射、沉積、CMP等工藝的材料沉積/去除量，保障工藝穩定性與一致性。

（2）粗糙度&波紋度分析：通過微觀輪廓曲線計算多維度參數，滿足高精密產品質量管控要求。

（3）表面應力檢測：兼容金屬、薄膜、微納材料等多種材質，為材料性能評估與研發創新提供關鍵數據。

2.智能化測量模式，兼顧效率與精準

（1）單區域快速檢測：影像導航定位，聚焦后一鍵啟動，快速完成單點精準測量，適配小批量樣品檢測。

（2）多區域批量測量：陣列式掃描路徑設置，橫向縱向自由調整，批量樣品自動完成全點位檢測，提升檢測效率30%以上。

（3）3D可視化呈現：自動完成掃描面全覆蓋檢測與3D圖像重建，微觀形貌直觀可溯，便于工藝問題排查。

（4）SPC統計分析：生成批量數據變化趨勢圖表，為質量追溯與工藝優化提供數據依據，助力精益生產。

3.便捷設計，降低使用與維護成本

（1）雙導航光學影像系統：500W像素彩色相機（正視/斜視可選），掃描路徑精準規劃，軌跡實時跟進，避免測量偏差。

（2）快速換針技術：磁吸式測針設計，現場秒級更換，搭配軟件快速標定功能，保障換針后精度與重復性，減少停機維護時間。

磁吸針實物外觀圖（330μm量程）

三、行業應用

1.半導體制造

沉積/蝕刻薄膜厚度檢測、CMP工藝表面平整度管控、抗蝕劑臺階高度分析，助力芯片良率提升。

2.光伏&顯示面板

太陽能涂層膜厚測量、AMOLED屏微結構檢測、觸控面板銅跡線精度分析，適配新能源與顯示產業升級需求。

3.MEMS&微納材料

微型傳感器形貌表征、柔性電子器件薄膜厚度檢測，支撐微納技術研發與量產質控。

4.科研與高校

材料表面應力分析、微加工工藝研發數據采集，加速科研項目落地與技術轉化。

四、實戰案例：光伏ITO導電薄膜高效檢測方案

針對太陽能光伏行業ITO導電薄膜測量需求，NS200臺階儀定制化解決痛點：

1.全電動載物臺+360°旋轉臺，快速定位測量標志位，大幅縮短定位時間；

2.自定義多區域測量模式，批量樣件一鍵完成多點位檢測，減少重復操作；

3. SPC統計分析功能，直觀呈現測量數據變化趨勢，為工藝調整提供數據支撐。

NS系列5?重復性臺階高度儀以精準、高效、適配、智能為核心，為客戶提供全場景微觀測量解決方案。如需了解產品詳細參數、申請樣品測試或定制行業專屬檢測方案，歡迎隨時聯系中圖儀器。

（注：產品參數與功能將隨技術升級持續優化，具體以實際溝通為準）